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控原子:

打造新一代半导体

从尖端的离子注入技术到专有设备,IBS 为全球工业提供高精度掺杂解决方案。

30余年的经验

一位富有远见的专家

愿景

离子注入——一项关键技术

一位专家

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全球性方法

服务于全球
客户群体

等离子体浸没式离子注入 <10 纳米

了解 Pulsion®

等离子体浸没掺杂是一种用途广泛的过程技术,在微电子加工和材料工程领域有着广泛的应用

PULSION® 等离子浸没式工具具有以下特点:

> 整片晶圆的同步掺杂
> 超低能量(低至 30 eV),无能量污染风险
> 3D 结构的符合性掺杂
> 热掺杂
> 宽工艺范围

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我们为半导体行业提供量身定制的解决方案。立即联系我们,了解更多关于我们尖端离子刻蚀技术及其如何为您的项目带来益处的信息。

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久经考验的专业能力

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由于我们各分支机构目前正在进行常规招聘,如果您具备工业维护、机械设计、电气工程、电子学和微电子学方面的技能,并对这些领域感兴趣,欢迎您咨询我们的职位空缺。

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