IBS 通过成功开发一款专用于实现高达 600KeV 铝离子注入的专用源，进一步巩固了其作为行业专家的地位。
这一突破为客户开辟了新的前景，特别是在碳化硅（SiC）应用领域，可满足其量产或研发项目中对晶圆离子注入的需求。
该技术支持 4 英寸和 6 英寸晶圆的自动模式操作，并可与高温掺杂（最高 600°C）相结合。
Ion Beam Services acquires C-Click
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